3M Trizact Composite Slurry DT-50 | Trizact | Polishing

Dung dịch đánh bóng cho vật liệu siêu cứng 3M DT-50

3M DT-50 là dung dịch mài và đánh bóng (composite slurry) thế hệ mới của 3M, được phát triển đặc biệt cho các quy trình xử lý vật liệu siêu cứng như silicon carbide, sapphire và gốm kỹ thuật. Với thành phần hạt kim cương kích thước siêu nhỏ 3 micron trong nền triethylene glycol, dung dịch này mang lại tốc độ loại bỏ cao, độ phẳng bề mặt vượt trội và dễ dàng vệ sinh bằng nước – là lựa chọn lý tưởng cho bước mài thô (rough lapping) trong sản xuất wafer bán dẫn.

Đặc điểm nổi bật của 3M DT-50

• Hiệu suất loại bỏ cao (High Removal Rate): Nhờ chứa hạt kim cương 3 micron, dung dịch giúp tăng tốc độ mài và rút ngắn thời gian xử lý vật liệu siêu cứng.
• Độ phẳng và bề mặt hoàn thiện tốt (Low TTV, Good Surface Finish): Khi sử dụng cùng pad đánh bóng 3M™ Trizact™, dung dịch cho kết quả bề mặt mịn, đồng đều và giảm sai lệch độ dày wafer.
• Thay thế tối ưu cho quy trình đồng (Copper Platen Process): Không cần tái tạo rãnh đồng (re-groove), loại bỏ hoàn toàn nguy cơ chất thải chứa kim loại nặng, thân thiện với môi trường.
• Dễ dàng làm sạch (Easy Cleanup): Dung dịch chứa triethylene glycol hòa tan trong nước, giúp vệ sinh thiết bị nhanh chóng, không để lại cặn bám.
• Tương thích linh hoạt: Phù hợp với cả máy lapping một mặt và hai mặt, đồng thời đạt hiệu suất cao nhất khi dùng với 3M Trizact Polishing Pads.

Ứng dụng của 3M DT-50

• Mài và đánh bóng vật liệu siêu cứng: silicon carbide (SiC), sapphire, gốm kỹ thuật cao.
• Quy trình lapping và pre-polishing trong sản xuất wafer bán dẫn, thiết bị quang học, linh kiện điện tử chính xác.
• Sử dụng cho bước rough lapping, giúp đạt độ phẳng và độ nhẵn cao với thời gian xử lý ngắn.
• Tối ưu khi kết hợp với 3M™ Trizact™ Polishing Pads, mang lại hiệu quả đồng nhất và ổn định cho toàn bộ quy trình.

Tổng kết

3M Trizact Composite Slurry DT-50 không chỉ mang lại hiệu suất cao và bề mặt hoàn thiện mịn, mà còn giúp giảm chi phí bảo trì và thời gian vệ sinh thiết bị. Đây là giải pháp đánh bóng lý tưởng cho các nhà sản xuất wafer và vật liệu quang học đang tìm kiếm hiệu quả tối đa trong mỗi công đoạn.